從第一塊集成電路誕生至今,芯片技術(shù)已徹底重塑人類文明。指甲蓋大小的硅片上可集成數(shù)十億晶體管,這種指數(shù)級(jí)發(fā)展遵循著摩爾定律的預(yù)言?,F(xiàn)代芯片不僅需要處理傳統(tǒng)計(jì)算任務(wù),還要應(yīng)對(duì)人工智能、自動(dòng)駕駛等新興需求。7納米工藝節(jié)點(diǎn)已成為當(dāng)前主流,而臺(tái)積電等企業(yè)正突破3納米極限,量子隧穿效應(yīng)帶來的物理挑戰(zhàn)催生了FinFET、GAA等三維晶體管結(jié)構(gòu)。材料方面,硅鍺合金、氮化鎵等半導(dǎo)體新寵正在特定領(lǐng)域替代傳統(tǒng)硅基材料,碳納米管與二維材料更被視為后摩爾時(shí)代的顛覆者。
傳統(tǒng)CPU的馮·諾依曼架構(gòu)正遭遇內(nèi)存墻瓶頸,異構(gòu)計(jì)算成為破局關(guān)鍵。GPU通過并行計(jì)算單元矩陣加速圖形處理,TPU則專為張量運(yùn)算優(yōu)化神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)計(jì)算。RISCV開源指令集掀起定制化浪潮,企業(yè)可自主設(shè)計(jì)符合場景需求的微架構(gòu)。EDA工具鏈的智能化程度顯著提升,Cadence的AI設(shè)計(jì)助手能自動(dòng)完成布局布線,將芯片開發(fā)周期從數(shù)月壓縮至數(shù)周。chiplet技術(shù)通過模塊化拼裝實(shí)現(xiàn)功能復(fù)用,英特爾EMIB封裝技術(shù)將不同工藝節(jié)點(diǎn)的芯粒集成在同一基板,這種"半導(dǎo)體樂高"模式大幅降低先進(jìn)制程研發(fā)成本。
極紫外光刻(EUV)設(shè)備堪稱人類最精密機(jī)械,ASML的TWINSCAN NXE:3600D系統(tǒng)使用13.5nm波長光源,反射鏡表面粗糙度需控制在原子級(jí)別。每臺(tái)造價(jià)超1.5億美元的EUV機(jī)器包含10萬個(gè)零部件,激光等離子體光源需要將錫滴加熱至30萬攝氏度產(chǎn)生等離子體。薄膜沉積環(huán)節(jié),原子層沉積(ALD)技術(shù)能實(shí)現(xiàn)單原子層精度控制,而離子注入機(jī)則需將摻雜原子加速到百萬電子伏特能量。潔凈室標(biāo)準(zhǔn)達(dá)到ISO 1級(jí),每立方米空氣中直徑0.1微米的顆粒不得超過10個(gè),比手術(shù)室潔凈度高出1000倍。
智能手機(jī)SoC集成5G基帶與NPU單元,華為麒麟9000在108平方毫米內(nèi)封裝153億晶體管。自動(dòng)駕駛芯片算力突破1000TOPS,英偉達(dá)Drive Thor平臺(tái)融合AI與圖形計(jì)算能力。數(shù)據(jù)中心開始部署DPU專用處理器,卸載網(wǎng)絡(luò)協(xié)議處理負(fù)載提升整體效率。邊緣計(jì)算場景中,存算一體芯片打破馮氏架構(gòu)桎梏,阿里平頭哥含光800通過3D堆疊實(shí)現(xiàn)內(nèi)存與計(jì)算單元零距離。生物芯片領(lǐng)域,Neuralink的腦機(jī)接口芯片已實(shí)現(xiàn)單神經(jīng)元信號(hào)捕捉,醫(yī)療診斷芯片可在15分鐘內(nèi)完成DNA測序。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已形成設(shè)計(jì)(ARM、高通)、制造(臺(tái)積電、三星)、設(shè)備(ASML、應(yīng)用材料)的垂直分工體系。中國在封測環(huán)節(jié)占據(jù)優(yōu)勢,長電科技全球市占率達(dá)13%,但在EDA工具與光刻機(jī)領(lǐng)域仍存短板。中芯國際28納米工藝良率追平臺(tái)積電,14納米FinFET技術(shù)進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn)階段。碳基芯片、光子芯片等顛覆性技術(shù)可能成為彎道超車機(jī)會(huì),本源量子已發(fā)布24比特超導(dǎo)量子芯片。產(chǎn)業(yè)政策方面,美國CHIPS法案提供520億美元補(bǔ)貼,歐盟芯片法案計(jì)劃2030年實(shí)現(xiàn)全球20%產(chǎn)能占比,中國大基金二期重點(diǎn)投資設(shè)備與材料領(lǐng)域。
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